La FUJIFILM X30 capta imágenes de alta calidad con su gran sensor X-Trans CMOS II de 2/3 de pulgada gracias a la matriz de píxeles a medida de Fujifilm. Y podrá disfrutar de la fotografía continua a alta velocidad y del vídeo Full HD gracias al alto rendimiento del elemento CMOS del sensor.
El sensor X-Trans CMOS II de 2/3 de pulgada, desarrollado originalmente por FUJIFILM para la FUJIFILM X30, hereda la misma arquitectura y características del sensor de alto rendimiento que se encuentra en la aclamada FUJIFILM X- Pro1, el modelo más representativo de la serie X. La utilización de la tecnología BSI (iluminación trasera) permite la incorporación con éxito de los píxeles de detección de fase a la matriz sin que esto afecte al rendimiento de sensibilidad, que es la clave del AF de alta velocidad de la FUJIFILM X20.
El X-Trans CMOS II adopta una matriz de filtro de color original con un patrón altamente aleatorio, que elimina la necesidad de un filtro óptico de paso bajo (OLPF), que se utiliza en los sistemas convencionales para inhibir el moiré sacrificando la resolución. De este modo el sensor puede captar directamente el rendimiento de alta resolución del objetivo de la FUJIFILM X30. Para aprovechar también el rendimiento mejorado del procesador EXR II, se calculan los factores del optimizador de modulación del objetivo (LMO) para compensar las aberraciones y el desenfoque por difracción que se producen cuando la luz pasa a través del objetivo y después se aplican para producir imágenes con una nitidez extraordinaria.
El fulgurante rendimiento del procesado de imágenes del nuevo procesador EXR II no solo produce imágenes de mayor resolución y calidad a velocidades más altas, sino que también acelera las respuestas del funcionamiento. De este modo, también se acelera el funcionamiento, reduciendo el tiempo de arranque a solo 0,5 segundos.** En combinación con la lectura de señal de alta velocidad del sensor X-Trans CMOS II, el procesador reduce el intervalo entre disparos a 0,3 segundos, acorta el retardo del obturador a aproximadamente 0,01 segundos y aumenta la velocidad máxima de disparo continuo hasta 12 fps.
La combinación de la mayor velocidad de procesado del procesador EXR II y la lectura rápida del sensor X-Trans CMOS II permite el disparo continuo de alta velocidad de 12 fps a la máxima resolución de 12 megapíxeles. Esto es especialmente útil cuando se dispara a sujetos en movimiento y después se selecciona la mejor imagen.
Este objetivo, que tiene una excelente luminosidad de F2.0-2.8 y un zoom óptico de 4x, con un alcance desde gran angular desde 28 mm*** hasta teleobjetivo de 112 mm*** . Desde las lentes asféricas y ED hasta la lente de alto índice de refracción, todos los elementos del diseño se han fabricado en cristal óptico de alto rendimiento y se han tratado con varias capas de HT-EBC (High Tansmittance Electron Beam Coating o recubrimiento por haz de electrones de alta transmitancia) para aumentar la resistencia a las imágenes fantasmas y los destellos del objetivo.
El mecanismo accionado por leva metálica y un lubricante especial desarrollado especialmente garantizan que la ampliación alcance su objetivo con precisión y que el suave zoom de alta precisión funcione perfectamente.
Con una abertura máxima de F2,0 en gran angular y F2,8 en ajuste de teleobjetivo máximo, este zoom es un objetivo extremadamente luminoso que puede producir atractivos efectos de desenfoque en toda la gama focal del zoom. El mecanismo de estabilización de imagen óptica (OIS) integrado consigue un efecto de estabilización de imagen equivalente a 3 pasos*4 y es extraordinariamente eficaz para evitar el desenfoque causado por el movimiento de la cámara o del sujeto.
Para mantener el tamaño compacto de la FUJIFILM X30 y al mismo tiempo garantizar una alta calidad de imagen, Fujinon ha adoptado lentes totalmente de cristal con características ópticas superiores en todos los elementos de la configuración de 9 grupos y 11 elementos. El diseño se compone de un conjunto de lentes asféricas, lentes ED y lentes de alto índice de refracción que se tratan con Super EBC (Electron Beam Coating o recubrimiento por haz de electrones), desarrollado originalmente por Fujinon.